X線光電子分光の基礎セミナー

　金属、高分子材料や表面処理、多層膜の試料等に対し、最表面の分析が可能なX線光電子分光法（XPS）について解説します。本装置を活用することで、電子顕微鏡では見逃す極薄の被膜や汚れの検出、表面官能基の確認や金属酸化物の価数判別、ナノ多層膜の膜厚測定などが行えます。
　本セミナーでは測定原理から組成、化学状態解析について説明し、深さ方向分析による応用事例なども紹介します。

■内容

　１.座学（基礎編）     　　　・XPSとは？ 原理の紹介

　２.座学（応用編）     　　　・深さ方向分析の分析事例の紹介

■講師

　日本エフイー・アイ株式会社                                                                                                    

　　齋藤　健　氏                                                                                                           

■日時

　令和８年７月２日(木)　１３時３０分～１６時３０分

■場所

　福島県ハイテクプラザ　1階　研修室　　（郡山市待池台1-12）

■受講料

　無料                                                                                                                             

■定員

　１５名                                                                                                                         

■申込締切

　令和８年６月１８日(木)　　※定員になり次第締め切ります。                       

申込書はこちら→　R8　xsen-2.pdf